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二氧化铪颗粒 HfO2 真空镀膜光学镀膜材料 99.99 军工专用蒂姆

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发布时间2020年10月30日
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二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料，近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注，由于它最可能替代目前硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂)，以解决目前MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题。
一、物理性质
化学符号：HfO2
外观：白色
分子量：210.49
密